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本實用新型涉及一種還原罐,特別是涉及一種碳化硅還原罐。技術(shù)背景在金屬真空冶煉生產(chǎn)中,根據(jù)還原劑的不同, 一般要求還原反應(yīng)溫度1000 130(TC,還 原罐內(nèi)部壓強(qiáng)小于

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本發(fā)明公開了一種碳化硅還原罐及制備方法. The present invention discloses a method for the preparation of silicon carbide and reduction tank. 該方法是用

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