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為了以更低的成本制備出優(yōu)質(zhì)Si3N4粉,北京科技大學(xué)提出了利用流化床技術(shù)常壓連續(xù)在該新工藝中,高溫氮化爐是決定氮化質(zhì)量好壞的關(guān)鍵設(shè)備。對高溫氮化
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作者:李超杰 偉文 張自生 來源:《當(dāng)代化工》2015 年第 09 期 摘要: 介紹了國內(nèi)外對于流化床法制備多晶硅過程中無定形硅粉成核機(jī)理、反應(yīng)器加熱 方式的研究。
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宜州波導(dǎo)雙工器項(xiàng)目氮化硅球項(xiàng)目電吹風(fēng)項(xiàng)目開溝機(jī)圓盤項(xiàng)目鉛絲籠項(xiàng)目。防彈玻璃項(xiàng)目水庫安全監(jiān)測設(shè)備項(xiàng)目酸洗卷項(xiàng)目外循環(huán)流化床熱水鍋爐項(xiàng)。 蘇州篩網(wǎng)項(xiàng)目一體移動(dòng)空調(diào)
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年月日氮化硅超細(xì)。 2018年8月4日涉及溶膠凝膠法制備氮化硅設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種溶膠凝膠法制備氮化硅粉體設(shè)備。易于大規(guī)模生產(chǎn),但純度難以保證,氧含量和
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.2氮化硅陶瓷 1.2.1歷史發(fā)展和晶體結(jié)構(gòu) 1.2.2氮化硅陶瓷的性能 1.3氮化硅材料的合成研究現(xiàn)狀 1.3.1硅粉直接氮化法 1.3.2碳熱還原法 1.3.3鹵化硅氨
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氮化硅的制備、性質(zhì)及應(yīng)用江福煒 湯梓聰 1 1 提綱·氮化硅的物理性質(zhì) ·氮化硅的化學(xué)結(jié)構(gòu) ·氮化硅的性能 ·氮化硅的制備方法 ·氮化硅的應(yīng)用 ·國內(nèi)形勢 ·
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氮化硅陶瓷 氣壓燒結(jié)氮化硅 熱壓燒結(jié)氮化硅 廈門聯(lián)合博睿陶瓷科技 氮化硅陶瓷的制備技術(shù)在過去幾年發(fā)展很快,制備工藝主要集中在反應(yīng)燒結(jié)法、熱壓燒結(jié)法和常壓燒結(jié)法
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為原料,分別采用二氧化硅與金屬硅、二氧化硅與氮化硅為反應(yīng)體系,通過調(diào)整兩種方法原料的加入比例,分別在1450、1500、1600℃×2h真空氣氛爐反應(yīng)燒結(jié)合成氧氮化硅。
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摘要 本實(shí)用新型公開了一種生產(chǎn)氮化硅的流化床反應(yīng)器,包括物料反應(yīng)區(qū)和環(huán)繞在物料反應(yīng)區(qū)周圍的加熱裝置,所述加熱裝置包括兩個(gè)以上的加熱區(qū),所述加熱區(qū)
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答案: I:3Si + 2N 2 Si 3 N 4 ;方法一所得產(chǎn)品中混有硅或方法二除產(chǎn)品是固體外其它物質(zhì)均為氣體;HCl(1分),NH 3 (1分) Ⅱ:(1)二氧化硅 (2)SiO 2 + 2C Si
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由于它適應(yīng)了當(dāng)前大規(guī)模集成電路 生產(chǎn)工藝向低溫工藝方向發(fā)展的趨勢,越 來越引起學(xué)術(shù)界的重視,成為制備氮化硅 薄膜常用的方法。 光化學(xué)氣相沉積(PCV
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PECVD 法是目前能在合金化(形成 MIS 結(jié)構(gòu)薄膜)之后的低溫條 件下生長氮化硅薄膜的 CVD 技術(shù)[14,15]。鑒于此,人們對 PECVD 法制備氮化硅薄膜工藝技
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廣東化工013年第1期·50·第40卷總第63期流化床法制備硅化鎂的工藝研究祁宏祥,顧克軍江蘇揚(yáng)農(nóng)化工集團(tuán)有限公司,江蘇揚(yáng)州5009[摘要]在一
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產(chǎn)品簡介MQW流化床氮化硅氣流粉碎機(jī)粉碎后的物料被上升的氣流輸送葉輪分級(jí)區(qū)內(nèi),在分級(jí)輪離心力和風(fēng)機(jī)抽力的作用下,實(shí)現(xiàn)粗細(xì)粉的分離,粗粉根據(jù)自身的重力返回粉碎
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氮化硅(Si3N4)是一種優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。Ⅰ工業(yè)上有多種方法來制備氮化硅,常見的方法有:方法一直接氮化法:在1300l400℃時(shí),
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2.1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備 第2829頁 2.2 制備方法 第2930頁 2.2.1 成型工藝 氣固流化床中粗黏性顆粒的流化特性 硅溶膠對單晶SiC化學(xué)機(jī)械拋光影響研 新型氮摻
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